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    型號(hào):
    HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

    描述:HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù),可實(shí)現(xiàn)1-10片樣品同時(shí)進(jìn)行,可實(shí)現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時(shí)搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達(dá)到的溫場(chǎng)均勻性,對(duì)材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

    主要應(yīng)用領(lǐng)域:

    快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RT

    • 廠商性質(zhì)

      生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間

      2025-03-20
    • 訪問(wèn)量

      1194
    詳細(xì)介紹
    品牌Microtrac/拜爾產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
    應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,電氣

    HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

      

    HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù),可實(shí)現(xiàn)1-10片樣品同時(shí)進(jìn)行,可實(shí)現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時(shí)搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達(dá)到的溫場(chǎng)均勻性,對(duì)材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

    主要應(yīng)用領(lǐng)域:

    快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

    金屬合金;

    熱氧化處理;

    化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

    太陽(yáng)能電池片退火;高溫退火;

    高溫?cái)U(kuò)散。

    產(chǎn)品特點(diǎn)

    ● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達(dá)50 ℃/s,特定條件下可以達(dá)到100 ℃/s。冷壁水冷設(shè)計(jì)能夠達(dá)到較大的降溫速率,特定條件下可達(dá)30 ℃/s。

    ● 精確控溫: 采用工業(yè)級(jí)溫控器進(jìn)行PID精確控溫,目標(biāo)溫度與設(shè)定溫度曲線一致性高,可實(shí)現(xiàn)室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

    ● 適應(yīng)多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮?dú)狻鍤獾龋M瑫r(shí),通過(guò)選配真空泵,可以在真空條件下進(jìn)行退火,最高真空度可達(dá)10-5Pa。

    ● 配備觀察窗口: 通過(guò)觀察窗口,可以實(shí)時(shí)觀察熱處理過(guò)程中的樣品變化。同時(shí),可以結(jié)合相關(guān)測(cè)試方法進(jìn)行原位測(cè)試分析。

    ● 超高安全系數(shù): 采用爐壁超溫報(bào)警系統(tǒng)和冷卻水流量報(bào)警系統(tǒng),保障儀器使用安全。

    ● 售后服務(wù):,能快速反應(yīng)客戶售后需求。



    最大樣品尺寸

    4英寸(直徑20mm)

    控溫范圍

    RT~1200

    升溫速率(max)

    50℃/s

    高溫段降溫速率(max)

    600℃/min

    溫度均勻性

    ≦1%

    控溫精度

    ±0.1℃

    氣體流量

    標(biāo)配1路,可擴(kuò)展至多路

    放樣管徑

    Ф210mm*320mm

    放樣數(shù)量

              4-10個(gè)

    真空度

       真空度可以達(dá)到10-5

        控制方式

    支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛,也可設(shè)置通過(guò)軟件控制真空及通氣時(shí)間



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