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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置
關(guān)鍵詞：晶圓，均勻，6寸
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，其形狀為圓形；晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)一道重要制程，通過嚴格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片，降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度，要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi)，最大可以達到±0.03℃，是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。
主要技術(shù)參數(shù);
1、溫度：室溫-200℃，650℃，1000℃，
2、加熱速率：40℃/min,
3、加熱臺尺寸：6寸，8寸，12寸等可以定制
4、控溫精度：±1 ℃
5、加熱溫度均勻度允許誤差：±1℃
6、加熱臺需可抗壓：100KN
7、可配合各種電學(xué)測試設(shè)備進行電學(xué)數(shù)據(jù)功能采集
8、表面處理：鍍膜，鍍金或是黑礬石
9、熱臺材質(zhì)：不銹鋼或銅
10、可以配合各種電學(xué)測試系統(tǒng)及探針測試
6寸晶圓在不同溫度下均勻性
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